2011年，在离阳澄湖10公里的光华工业园，刚刚成立的晶洲装备成功开发了行业首台背抛光刻蚀清洗机，面对越来越激烈的市场竞争，晶洲没有打价格战，而是选择了对技术的坚持，围绕着湿制程核心技术，不断开拓，在平板显示、光伏、半导体领域进行了战略性部署，并同步延伸相配套的环保及自动化技术，如废液在线回收系统以及机器人运用等关键自动化系统。
▲背抛光刻蚀清洗机
时光匆忙，胶片冲洗出的梦想依旧闪亮。 一条轴线，旧时的轨迹跃然眼前。
2012年：综合技术与服务能力，晶洲接到第一台面板湿制程设备改造案，每个装配图反复检讨，每个电线标号重新备注，在客户的协助和晶洲人拼搏付出下圆满完成改造，那一年我们成长很多。
2013年：攻克平板显示黄光工艺区的高端湿法设备。
2014年：完成G5.5 AMOLED湿法刻蚀设备的开发与制造。
2015年：G5.5湿法刻蚀设备以及该领域高精度清洗设备在客户端先后实现量产，并通过验收；同年在光伏领域启动第一代湿法黑硅设备的研制。
2016年：第一代湿法黑硅设备顺利量产与第二代湿法黑硅设备的研制与量产。
2017年：第三代湿法黑硅设备成功开发并批量供应；在平板显示（6代AMOLED）行业湿制程装备领域，晶洲作为唯一国产设备供应商。
2018年：光伏领域新一代高效晶硅制绒清洗综合设备、碱抛光刻蚀清洗综合设备等全面推向市场；平板显示领域装备彻底打破进口设备商垄断、并与进口设备商直接竞争。
2019年：平板显示领域,G6掩膜版清洗全面突破，柔性On Cell打孔湿法装备成套交付；光伏领域,TOPCon湿法设备技术成熟深获客户认可,在业内影响力深远。
9年来，伴随着大陆面板和光伏以及半导体事业的发展，晶洲成果硕硕。为了满足市场对国产湿制程装备日益增长的需求，经过地方政府的考察与认可，晶洲装备正式获得许可，于近期在常熟市辛庄镇建设我们的新家园。
