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深耕湿制程领域,发扬国产装备技术,晶洲装备参加DIC 2021国际显示展

关键词:湿制程,国产装备,湿法刻蚀机

6月30日,由中国光学光电子行业协会液晶分会主办的DIC 2021国际显示技术及应用创新展在上海新国际博览中心顺利开幕, 晶洲装备应邀参展,发扬装备国产化,展示湿制程装备国产化成果。

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本次展会苏州晶洲装备科技有限公司以国际视野、国产装备为企业口号,在平板显示领域,从清洗、显影、刻蚀,到剥离、蒸镀前清洗,提供了切实有效的解决方案,以G8.5湿法刻蚀设备,展出了清洗机、显影机、湿法刻蚀机、光阻剥离机、掩模版清洗机等一系列湿制程主工艺设备。展会首日,晶洲装备的展台就吸引了无数专家、参展者的驻足,对晶洲装备所展出的产品表示了极大的兴趣,很多客户都现场进行了详细咨询,希望通过这次机会进行深入合作。

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同时,晶洲装备也获得了行业内人士的高度认可,在30日晚举办的DIC AWARD 2021“国际显示技术创新大奖”中,经过25位专家的评审,我司G8.5湿法刻蚀设备荣获装备创新金奖,总经理蒋新先生上台接受了颁奖。

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DIC AWARD作为我国面板业界极具影响力和权威性的奖项,旨在对显示产业技术未来发展趋势、产品与技术创新、创新应用等各方面具有突出贡献和重要影响的产品或解决方案进行表彰。中国作为全球最大的消费电子市场,在平板显示领域,由于国内相关产业链发展晚于日韩企业,该领域的前、中段生产设备主要由国外企业垄断,在一些核心设备上无法突破,屡屡受制于人。而由于研发周期长、设计门槛高、资金投入大,国内厂商少有涉足显示设备领域。晶洲装备自主研发的G8.5湿法刻蚀设备,在设备综合性能方面,包括设备稳定性、安全性、均一性等都达到甚至超过进口设备水平,并且由于本土优势,在成本、售后、响应速度等方面远远优越于国外厂商,专家们对晶洲装备在创造性、创新性等成果方面给予了充分的肯定。晶洲装备也将以此次获奖为契机,在今后的发展中继续保持创新势头,将湿制程设备继续做好、做大、做强、做专。

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