7月22~24日， 由中国光学光电子行业协会液晶分会主办的 DIC EXPO 2020 国际显示技术及应用创新展在上海国家会展中心举办， 本次展会旨在以显示为纽带，覆盖新型显示行业上中下游全产业链，同时也将展示商显、车载、家庭、教育、娱乐、医疗等终端消费电子应用领域前沿的显示及触控产品和技术，助力企业进行品牌曝光、新品发布、维护供应商关系，是行业采购商和专业人士获取最前沿的市场信息、最尖端的技术、向国际领先专家学习的优质平台。为了发扬装备国产化，展示湿制程装备国产化成果， 苏州晶洲装备科技有限公司应邀参展。
本次展会苏州晶洲装备科技有限公司展出了湿法刻蚀首台套设备为代表的高端湿制程装备以及晶洲于2020年成功交付量产的G6掩膜版清洗设备(Mask Cleaner)，并在23日的中国显示创新材料及设备高峰论坛上发表了“砥砺十年，引领平板显示前制程湿法装备”的主题讲话，介绍了晶洲装备的国产湿制程设备及工艺技术的解决方案、量产表现以及成立以来取得的成果，表达了晶洲装备深耕湿制程领域，发扬国产装备的决心。会场上的专业观众及参展企业对晶洲装备所展出的产品表示了极大的兴趣，很多客户都现场进行了详细咨询，希望通过这次机会进行深入合作。
苏州晶洲装备科技有限公司成立于2011年，是一家集研发、设计、制造、销售及售后为一体的高新技术企业，自成立以来一直致力于高端湿制程装备及工艺技术的国产化，产品主要为应用于平板显示、光伏、半导体等行业的高精密清洗、湿法刻蚀、光阻剥离、显影等高端湿制程设备，并同步延伸相配套的环保及自动化技术，如废液在线回收系统、机器人运用等关键自动化系统。
